瑞典Ionautics新一代HiPIMS設(shè)備HiPSTER 25落地瑞士Swiss PVD，攜手賦能高性能薄膜沉積技術(shù)工業(yè)化，助力PVD行業(yè)工藝升級
作為瑞典高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）技術(shù)領(lǐng)域的重要企業(yè)，Ionautics長期深耕于高端涂層設(shè)備研發(fā)與工藝創(chuàng)新，憑借可靠的技術(shù)方案為全球表面工程及PVD（物理氣相沉積）行業(yè)提供專業(yè)設(shè)備支撐，在高精度涂層技術(shù)工業(yè)化應(yīng)用領(lǐng)域積累了良好的行業(yè)口碑。
近日，Ionautics公司再次官宣重要進展——其自主研發(fā)的新一代HiPIMS設(shè)備HiPSTER 25，已在瑞士高端涂層領(lǐng)域知名企業(yè)Swiss PVD完成全流程的安裝調(diào)試，并順利實現(xiàn)首次商業(yè)化運行。這一成果不僅是雙方在高性能薄膜沉積領(lǐng)域技術(shù)理念與實踐能力的深度協(xié)同，更標志著HiPSTER系列核心技術(shù)在歐洲高端PVD市場的成功落地，為行業(yè)在鍍膜效率提升、工藝精準優(yōu)化及高端應(yīng)用場景拓展等方面，提供了全新的發(fā)展空間與實踐路徑。
落地Swiss PVD，共筑高端涂層生態(tài)
Swiss PVD是一家長期深耕高端表面工程技術(shù)的瑞士企業(yè)，業(yè)務(wù)涵蓋硬質(zhì)涂層、功能薄膜與光學(xué)應(yīng)用等多個方向。憑借豐富的薄膜沉積經(jīng)驗與精細化的工藝控制體系，Swiss PVD對設(shè)備的穩(wěn)定性、重復(fù)性和過程一致性有著嚴格要求。
此次將HiPSTER 25引入其生產(chǎn)體系，既為Swiss PVD在拓展高效HiPIMS工藝方面提供了新的技術(shù)選擇，也為雙方深化合作、共同探索高性能薄膜沉積解決方案創(chuàng)造了條件。對Ionautics而言，HiPSTER 25在Swiss PVD的成功部署，是其在高端應(yīng)用場景中的又一次驗證，有助于獲得更多工業(yè)級應(yīng)用反饋，進一步推動產(chǎn)品迭代與性能優(yōu)化。
技術(shù)引領(lǐng)，賦能高效沉積
作為Ionautics最新推出的25 kW級緊湊型HiPIMS脈沖電源，HiPSTER 25面向硬質(zhì)涂層、功能薄膜、光學(xué)鍍膜、擴散屏障、電氣涂層以及三維結(jié)構(gòu)等多類應(yīng)用場景設(shè)計。通過整體架構(gòu)升級與關(guān)鍵器件的優(yōu)化，該設(shè)備在沉積效率、穩(wěn)定性和工藝靈活性方面均實現(xiàn)了進一步提升。其主要特性包括：
? 高效脈沖控制
采用新一代碳化硅（SiC）功率晶體管，具備耐高溫、快速開關(guān)和低損耗等優(yōu)勢。結(jié)合優(yōu)化后的開關(guān)設(shè)計，HiPSTER 25可實現(xiàn)最高150 kHz的 HiPIMS 脈沖頻率，使放電過程更穩(wěn)定，并有助于在復(fù)雜基材上形成致密、均勻的薄膜結(jié)構(gòu)。
? 雙極HiPIMS工藝支持
內(nèi)置的雙極運行模式可在無需額外基底偏壓的條件下實現(xiàn)離子加速，適用于致密度和附著力要求較高的涂層應(yīng)用。用戶可通過靈活調(diào)節(jié)脈沖能量與多項工藝參數(shù)，對薄膜質(zhì)量實現(xiàn)更細致的控制。
? 廣泛的工藝兼容性
HiPSTER 25適配多種磁控管與反應(yīng)式工藝，并集成Ionautics的反應(yīng)過程控制系統(tǒng)，提高沉積過程的穩(wěn)定性和成分一致性。在航空航天、醫(yī)療器械和汽車制造等對三維涂層均勻性有較高要求的行業(yè)中，也展現(xiàn)出良好的工藝適應(yīng)性。
HiPSTER 25在Swiss PVD的成功運行，是高端制造領(lǐng)域中“技術(shù)創(chuàng)新與行業(yè)實踐”有效結(jié)合的成果，也代表著Ionautics將創(chuàng)新技術(shù)加速推向市場應(yīng)用的重要一步。未來，瑞典Ionautics將繼續(xù)深化高功率脈沖技術(shù)研發(fā)，并與行業(yè)合作伙伴攜手，共同推動高端涂層技術(shù)的拓展與落地，助力全球PVD行業(yè)朝著更高效、精準與可持續(xù)的方向發(fā)展。如需了解更多資訊，請前往Ionautics中國官網(wǎng)。
